集成电路加工的主要工艺步骤

 时间:2024-11-01 01:15:06

1、晶圆制造和沉积这步主要是将晶体进行切片、研磨、抛光、包裹和运输这几步完成初加工。而沉积是利用化学方式,将晶圆表面气体分子形成沉积混合物的一种工艺技术

集成电路加工的主要工艺步骤

2、光刻和刻蚀通过在晶圆上印刻电路图形,这个过程占总成本的35%左右。刻蚀是经过工艺制造过程,将抗蚀剂膜上产生需要的图形。

集成电路加工的主要工艺步骤

3、热处理和研磨通过热处理方式,将晶体内应力进行消除。通过用化学和机械研磨手段,将抛光沉积层进行研磨,达到更加平坦方便进行光刻精度和精细程度提高。

集成电路加工的主要工艺步骤

4、检测检查和测试检测是对晶圆的电子性能进行检测,检查是对晶圆制造过程中污染颗粒的检查。探针测试是通过测试仪器,对芯片上每个电路和性能进行检测,有问题的及时排除。

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5、封装和成品晶圆上的芯片被切成单个芯片进行封装,经过成品检测手段,对芯片进行出厂前的最后检测,符合要求即可出厂。

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