PS偏平化logo设计制作

1、新建图层，在背景地方填充一种颜色，然后复制一层。

2、选择背景副本，混合模式->描边。内部。把填充不透明度改为0

3、在上面打上几个文字，复制一层。把复制出来的文字图层格栅化

4、然后选择图形->调整->反相（Ctrl+I）

5、把反相图层移动到文字图层下面。然后按住alt+ctrl，同时再按方向键，→↓→↓

6、选择刚才复制所以图层，盖印合并 Ctrl+E。

合并后再复制几层。

7、把阴影图层不透明度改为30%，拖到复制背景图层的下面